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高纯含氟电子特气合成技术研究进展

发布日期：2026-02-02 14:48:14 来源：特气网

摘要:随着半导体技术的不断进步，对电子特气的品质要求也随之提高。在种类众多的电子特气中，含氟电子特气因其较高的刻蚀速率和选择性而备受关注，在气相沉积和高效刻蚀硅片上的绝缘层以及导体层等方面发挥着关键作用。

高纯含氟电子特气合成技术研究进展.pdf

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